Description

Le MA-4 de Karl Suss a été conçu pour de la photolithographie de haute précision dans un environnement de laboratoire. Il peut accommoder des masques jusqu’à 5 pouces de diamètre, de formes régulières ou irrégulières.

Utilisations Photolithographie Exposition de différentes résines

Spécifications techniques

Alignement de masques :	de 3 à 5 pouces
Dimension maximale d’un wafer :	4 pouces
Modes de contact :	5 (hard vacuum à proximité)
Lampe :	350W Hg
Optique :	UV 400 (raies 436 – 405 – 365 nm)
Insolation :	en puissance ou en intensité constante
Alignement :	FAV/FAR Infrarouge
Manufacturier :	Karl Suss
Modèle :	MA-4