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SPECTROMÉTRIE PHOTOÉLECTRONIQUE PAR RAYONS X (XPS)

Le XPS, à cause de sa grande polyvalence, est l’appareil le plus utilisé au GCM pour faire de l’analyse chimique. En effet, cette technique permet de mesurer de manière quantitative la composition élémentaire et moléculaire d’un échantillon. Par exemple, il est possible de mesurer la concentration de fer dans un résidu industriel, mais aussi de déterminer le composé présent (ex. Fe2O3)

Cette technique à ultra haut vide (UHV) mesure les photoélectrons émis par un échantillon après qu’il ait été irradié par des rayons X d’aluminium ou de magnésium, tel que décrit par l’effet photoélectrique d’Einstein.

Paramètres d’analyse

Matériaux analysables: Solides organiques et inorganiques
Type d’information obtenue: moléculaire et/ou élémentaire
Précision: Quantitatif
Limite de détection: 0.1 % atomique
Profondeur d’analyse: 10 premiers nanomètres
Plus petite zone analysable: 250 microns de diamètre

Utilisation

Analyse quantitative et non destructive de la   surface de matériaux organiques et inorganiques

Identification des espèces chimiques présentes

Identification de contaminants

 

 

Avantages:

Analyse quantitative élémentaire et moléculaire
Analyse de surface (10 nm)
Tout types de matériaux (organiques, inorganiques)

Désavantages:

Pas d’imagerie
Travail sous vide
Analyse de surface (contamination possible)

-Composition chimique et identification de minerais, alliages, plastiques, etc…

-Identification de défaillance pour des colles, matériaux de construction.

-Analyse de corrosion et de contamination

Éléments détectés : Lithium – uranium

Résolution/sensibilité : 0.1 – 1 at%

Résolution en profondeur : 1 – 10 nm

Résolution latérale : 250 µm – 2 mm

Autres caractéristiques :

Cartographie, profil en profondeur,

Température  = -196 – 600C,

Chambre de préparation et de déposition par pulvérisation ou évaporation

Manufacturier : VG Scientific

Modèle : ESCALAB 3 MKII

Manufacturier : Kratos

Modèle : Axis Ultra

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