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ÉVAPORATEUR PAR FAISCEAU D’ÉLECTRONS

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L’évaporateur par faisceau d’électrons (e-beam evaporator) est utilisé pour le dépôt de métaux et diélectriques. Il permet de déposer jusqu’à 4 différents matériaux consécutivement. Le contrôle de l’épaisseur est effectué par une microbalance calibrée. Il est également possible de remplacer les matériaux après chaque dépôt pour un maximum de flexibilité. La courte distance creuset/porte-substrat permet d’obtenir un taux de dépôt élevé ainsi qu’une uniformité supérieur à 98% sur un substrat de 4 pouces.

Utilisation

-Dépôt de métaux et diélectriques sur de petits échantillons

Substrats permis : Tous sauf plastiques et photorésines
Porte-échantillon : 5 po de diamètre
Pression de base : 6×10-8 torr
Temps de pompage : 1h
Distance cible porte-substrat : 10 po
Nombre de creusets : 4
Volume des creusets : 2.2 cm3
Taux de dépôt : 1 – 10 Angströms / s
Manufacturier : Thermionics

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