Description
L’évaporateur par faisceau d’électrons (e-beam evaporator) est utilisé pour le dépôt de métaux et diélectriques. Il permet de déposer 6 matériaux consécutivement avec l’épaisseur contrôlée par une microbalance calibrée. Il est également possible de remplacer les matériaux après chaque dépôt pour un maximum de flexibilité. La courte distance creuset/porte-substrat permet d’obtenir un taux de dépôt élevé, au détriment de l’uniformité.Utilisations
- Dépôt de métaux et diélectriques sur de petits échantillons
Spécifications techniques
| Substrats permis : | Tous sauf plastiques et photorésines |
| Porte-échantillon : | 4 po de diamètre |
| Pression de base : | 1x10-6 torr |
| Temps de pompage : | 1h |
| Distance cible porte-substrat : | 10 po |
| Nombre de creusets : | 6 |
| Volume des creusets : | 1 cm3 |
| Taux de dépôt : | 1 - 10 Angströms / s |
| Manufacturier : | Edwards |