Description

La gravure par ions réactifs sert principalement à la gravure anisotropique de dispositifs microélectroniques. La RIE est une méthode d’opération simple pour la gravure au plasma.

Utilisations Gravure par plasma SF6, O2, N2, Ar, He Préparation de surface par plasma Stripping par plasma O2

Spécifications techniques

Manufacturier :

Technics