/ Séchage supercritique (CPD)

SÉCHAGE SUPERCRITIQUE

lmf6Le séchage de microstructures suspendues,  particulièrement lors de la réalisation de MEMS, peut être complexifié par des phénomènes de stiction. En effet, les structures très rapprochées (moins de  quelques microns) du  substrat et pièces mobiles peuvent être amenées à  adhérer ensemble lors du séchage. Le CPD, utilise le CO2 amené à son point super-critique du diagramme de phase, et évite ainsi le passage par les transitions liquide-gaz où les tensions de surfaces attirent les surfaces l’une sur l’autre, et provoquent le collage.

Utilisation

-Éliminer la phase liquide dans un système.

Manufacturier: Tousimis
Modèle:  Autosamdri 815B
Échantillons:  parcelles jusqu’à 100mm de diamètre ( 4po)
Méthode de séchage: CO2 supercritique

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