Description
La pulvérisation à magnétron pulsé à haute puissance (HIPIMS) est une méthode de dépôt physique de couches minces. Le HIPIMS produit des décharges de très haute puissance avec des impulsions assez courtes de quelques dizaines de secondes. Cette technique s’avère particulièrement utile pour déposer des microstructures de haute densité. De plus, en faisant un pré-traitement du substrat, il est possible d’accroître significativement l’adhésion de la couche mince.
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Utilisations
- Dépôt de couches minces
- Dépôt de revêtements durs, de revêtements optiques
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Spécifications techniques
| Diamètre du porte-échantillon : |
4 pouces |
| Gaz disponibles : |
Ar, N2, O2 |
| Taux de déposition : |
0.1 – 1 nm/s |
| Contrôle de l’épaisseur : |
5% |
| Température du substrat : |
250 0C |
| Pression de base : |
5 x 10-7 torr |
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| Manufacturier : |
Huttinger |
