Spectrométrie photoélectronique par rayons X (XPS)

Description

Le XPS, aussi connu sous le nom de spectroscopie électronique pour l’analyse chimique (ESCA), permet de connaître la composition élémentaire, l’état électronique et chimique des éléments contenus dans les 1 à 10 premiers nm de la surface d’un matériau. Cette technique à ultra haut-vide (UHV) mesure les photoélectrons émis par un échantillon après qu’il ait été irradié par des rayons X d’aluminium ou de magnésium, tel que décrit par l’effet photoélectrique d’Einstein.

Utilisations

  • Analyse quantitative et non destructive de la surface de matériaux organiques et inorganiques
  • Identification des espèces chimiques présentes
  • Identification de contaminants

Spécifications techniques

Éléments détectés : Lithium - uranium
Résolution/sensibilité : 0.1 – 1 at%
Résolution en profondeur : 1 – 10 nm
Résolution latérale : 250 µm – 2 mm
Autres caractéristiques : Cartographie, profil en profondeur, T = -196 – 600 oC, Chambre de préparation et de déposition par pulvérisation ou évaporation
   
Manufacturier : VG Scientific
Modèle : ESCALAB 3 MKII
   
Manufacturier : Kratos
Modèle : Axis Ultra